Zeiss räumt Zukunftspreis ab

Auszeichnung Jury würdigt den wesentlichen Beitrag, den ein Team aus Zeiss, Trumpf und Fraunhofer-Institut bei der Entwicklung der EUV-Lithografie zur Chip-Herstellung geleistet hat.

Oberkochen

Für seinen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung der EUV-Lithografie hat Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier ein Team aus Zeiss (Oberkochen), Trumpf (Ditzingen) und Fraunhofer-Institut (Jena) mit dem Deutschen Zukunftspreis geehrt. Er zeichnete die Entwickler Dr. Peter Kürz (Zeiss-Sparte SMT), Dr. Michael Kösters (Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing) und Dr. Sergiy Yulin, (Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena) aus.

Das EUV-Lithografiesystem revolutioniert die Chipherstellung: Gegenüber der bisher in der Chipfertigung etablierten optischen Lithografie lassen

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